솔버
정확한 시뮬레이션 결과를 신속하게 제공하는 솔버를 실현하는 데 도움이 되는 선도적이고 혁신적인 기술이 있습니다. 그 중에서도 FDTD (Finite-Different Time-Domain) 기반의 자체 개발 기술인 EIT (Embedded Integral Technique)가 ZWSim-EM의 주요 알고리즘입니다. 다른 적용 기술들 :
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업그레이드된 컨포멀 기술(Conformal Technology):
복잡한 기하학적 처리에서 FDTD 알고리즘을 사용할 때 발생하는 결함을 극복하여 2 차 정확도 및 효율성을 보장합니다.
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불규칙한 그리드 처리 기술:
time step에서 Conformal-FDTD 알고리즘을 사용할 때 발생하는 결함을 극복하여 time step를 줄이지 않고 계산 효율을 보장합니다.
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주요 모델 불연속성:
모델 불연속성은 강건하고 점과 선으로 변하는 모델을 포함하여 모든 걷잡을 수 없는 삼각형 모델을 처리 할 수 있습니다.
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최적화된 커널 알고리즘:
커널 알고리즘은 기존 알고리즘보다 빠르게 계산할 수 있도록 특별히 최적화되었습니다.
전처리(Pre-processing)
전처리를 위해 ZWSim-EM은 단위 설정, 모델 작성, 재질 할당, 배경 및 경계 설정, 여기 신호 설정, 여기 소스 설정, 메쉬 설정, 솔버 설정 및 확인을 지원합니다.
이 준비 과정은 명확하고 편리하며 완벽하므로 시뮬레이션이 원활하게 실행되고 결과가 이상적으로 표시됩니다.
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강력한 모델링 기능
ZW3D의 강력한 모델링 기능을 기반으로 ZWSim-EM은 전자기장에서 다양한 모델링 요구 사항을 충족 할 수 있습니다..sat, .stp 및 .igs와 같은 24 가지 모델 형식을 가져올 수 있습니다. 히스토리 트리에 의해 구동되는 파라 메트릭 모델링을 통해 ZWSim-EM에서 직접 모델링을 수행 할 수 있으며, 이는 모델링 효율성을 크게 향상시키고 후속 매개 변수 스위핑 및 최적화를 촉진하며 복잡한 구조에 특히 편리합니다. 또한 현재 설정이 모두 포함 된 모델을 컴포넌트 라이브러리에 저장하여 나중에 직접 불러와 사용할 수 있습니다.
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풍부한 재질 라이브러리
ZWSim-EM은 160 가지가 넘는 재질를 포함하는 풍부한 재질 라이브러리를 제공하여 할당 할 다양한 전자기 재질를 제공합니다.형상 모델의 경우 수백 종류의 재질을 선택할 수 있습니다. 무한한 얇은면의 경우 PEC 재질이 제공됩니다. 특정 요구에 따라 재질를 사용자 정의하고 새로 만든 재질를 재질 라이브러리에 추가 할 수있어 액세스 및 재사용이 편리합니다.
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다중 배열 패턴
ZWSim-EM은 안테나에 강력한 어레이 기능을 제공하여 배열 안테나 시뮬레이션의 효율적인 전처리를 실현합니다.배열 안테나 장치를 지원하여 배열 안테나를 형성하고 시뮬레이션 요구 사항을 충족합니다. 선형 배열, 원형 배열, 다각형 배열, 점대 점 배열 및 곡선 또는 표면을 따른 배열과 같은 다양한 배열 패턴을 사용할 수 있습니다. 또한 모델, 재질 및 포트를 동시에 배열하여 배열 안테나를 효율적으로 시뮬레이션 할 수 있습니다.
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다중 배경 및 경계 옵션
다양한 종류의 배경과 경계가 있으며 안테나 및 도파관과 같은 다양한 전자기 물체를 시뮬레이션해야하는 요구를 충족시킵니다.기본 배경 재질은 진공이거나 재질 라이브러리에서 다른 재질을 선택하거나 직접 정의 할 수도 있습니다. 열린 경계 (기본값), PEC, PMC 및주기와 같은 다양한 경계가 지원됩니다. 안테나 시뮬레이션의 경우 배경은 진공일 수 있으며 경계는 열려있습니다. 전력 분배기, 필터 등과 같은 도파관의 시뮬레이션의 경우 배경은 PEC와 같은 도체가 될 수 있지만 경계는 반드시 PEC이어야 합니다.
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다중 여기(勵起) 소스/포트
ZWSim-EM은 여러 여기 소스와 여기 방법을 제공합니다. 여기 포트를 선택하고 순차적으로 또는 동시에 여기시킬 수 있습니다.ZWSim-EM에는 Dipole, Lumped Port, Wave Port 및 Plane Wave Port의 네 가지 유형의 포트가 있습니다. 범프 포트 및 웨이브 포트는 주로 안테나 시뮬레이션에 사용되며 평면 웨이브 포트는 일반적으로 RCS 시뮬레이션에 사용됩니다. 여러 포트가 있는 모델의 경우 ZWSim-EM은 두 가지 방법으로 순차 여기 (기본값)와 동시 여기를 제공합니다. 각 포트의 여기 진폭, 위상 (기본값 : 0), 지연 등을 설정하고 편집 할 수 있습니다.
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다중 메쉬 생성 방법
ZWSim-EM은 다양한 정확도 요구 사항을 충족시키기 위해 다양한 메쉬 생성 방법을 제공합니다. 적은 메쉬와 짧은 시간으로 정확한 시뮬레이션 결과를 얻을 수 있습니다.메쉬 생성 설정에는 일반 메쉬, 로컬 메쉬 및 임계 위치 메쉬의 세 가지가 있습니다. 일반 모델 시뮬레이션의 경우 기본 설정이 있는 일반 메시가 수행합니다. 모델이 더 복잡한 경우 복잡한 부품의 메쉬를 세분화하는 로컬 메쉬와 임계점을 메쉬 선으로 나누는 임계 위치 메쉬가 도움이 됩니다.
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지능형 검사
시뮬레이션을 원활하게 실행할 수 있도록 전처리 설정의 유효성을 보장하기 위해 분석하고 조정하여 프로젝트를 확인할 수 있습니다.겹친 객체 검사, 백그라운드 및 경계 검사, 여기 신호 검사, 여기 소스 검사, 프로브 검사, 메쉬 검사 및 솔버 검사를 포함한 여러 가지 검사 옵션이 있습니다. 통과된 항목은“√”로 표시되고 실패한 항목은 메시지 보드에 오류 경고와 함께“×”로 표시됩니다.
